半導体 液晶 製造装置 中古装置 SST SRD DNS SEZ NISON CERAUS CVD PVD IMPLA スパッタ 真空ポンプ リファブ オーバーホール タッチパネル ロボット など
TEL. 06-6309-5300
〒532-0011 大阪市淀川区西中島6-1-15アセンズ新大阪２F
会社概要COMPANY
- 会社名
- ゼン・オウルズ株式会社 （英文：ＺＥＮ ＯＷＬＳ ＣＯ）
- 代表者名
- 代表取締役 古木善之
- 本社所在地
- 〒532-0011
大阪市淀川区西中島6-1-15アセンズ新大阪２F
→アクセス
TEL. ０６−６３０９−５３００
FAX. ０６−６３０９−５３０３ - 四日市事務所
- 〒510-0075
三重県四日市市安島２−８−9安島ビル２F - 資本金
- ２０００万円
- 設立年月日
- １９９７年 １１月７日
- 従業員数
- 40名（２０１８年４月現在） ※契約社員含む
- 決算期
- ８月３１日
- 取引銀行
- みずほ銀行、三井住友銀行、泉州池田銀行
沿革
- 1997年11月
- 大阪市東淀川区に設立（資本金１０００万円）代表取締役に古木善之が就任（設立当初社員５名にて起業）
- 1997年11月
- 液晶パネル（LCD２世代）製造用ＣＶＤ装置メンテナンスサポート会社
- 1997年12月
- 液晶パネル（LCD３〜３・５世代）製造用ＣＶＤ装置立上げサポート開始
- 1998年4月
- 真空ロボットメンテナンスサポート開始
- 1999年1月
- 半導体ウエハー洗浄装置メンテナンスサポート開始
- 1999年5月
- 東京都稲城市に東京事務所開設
- 1999年9月
- 液晶パネル（LCD、カラーフィルター）製造用装置エンジニア派遣開始（設置〜製造〜メンテナンスサポート業務一貫）
- 1999年9月
- 静岡市に静岡事務所開設
- 2000年1月
- 真空ポンプ（クライオポンプ）エンジニア派遣開始
- 2000年1月
- 真空ポンプ（クライオポンプ）メンテナンスサポート開始
- 2002年4月
- LCD検査装置用特殊照明、特殊顕微鏡の製造及び販売を開始
- 2002年11月
- 液晶パネル製造メーカー工場より、CVD装置用真空排気配管のメンテナンスサポートを受注、サポート開始
- 2002年12月
- 上海市浦東新区に上海事務所を開設
- 2003年4月
- 液晶パネル（LCD５世代）膜厚検査装置のメンテナンスサポート開始
- 2003年5月
- 半導体前工程メーカー工場より、ウエハー洗浄装置のメンテナンスサポートを受注、サポートを開始
- 2003年5月
- 液晶パネル用注入装置及び検査装置のセットアップ作業請負
- 2003年6月
- 半導体前工程製造用CVD装置メンテナンスサポート開始
- 2003年7月
- JSENA(日本半導体エンジニアリングネットワーク協会)設立と同時に、正会員に加入
- 2004年3月
- 液晶パネル用塗布装置のセットアップ作業請負
- 2004年8月
- 特殊高圧バルブの高圧GAS使用認定を代理取得（KHK：高圧ガス保安協会による、個別バルブ認定取得）を開始
- 2005年5月
- 半導体製造装置メーカー（ドライETCH）へのエンジニア派遣開始
- 2005年8月
- N2（窒素ガス）発生装置のメンテナンスサポート開始
- 2006年7月
- 半導体製造装置メーカー（イオン注入機）へのエンジニア派遣開始
- 2006年12月
- 横浜市港北区に横浜事務所を開設
- 2007年5月
- 半導体製造装置メーカー（CVD）へのエンジニア派遣開始
- 2007年7月
- 液晶パネル（LCD2世代）製造ライン移設（日本→中国）プロジェクト参加
- 2007年7月
- MEMS製造ラインその他移設（日本国内）プロジェクト参加
- 2007年12月
- 実装工程用エクセル社製N2リフロー炉（ベーター機）設計、製作開始
- 2008年7月
- 大型液晶基板用周辺露光機サポート開始
- 2008年12月
- 有機EL用蒸着装置サービスサポート開始
- 2009年2月
- 有機EL研究ライン移設（日本→台湾）プロジェクト参加
- 2010年10月
- 半導体前工程メーカー工場より、バッチ式ウエハー洗浄装置リファブ及び立上げ、メンテナンスサポート開始
- 2011年5月
- 実装工程用製造装置リフロー炉（エクセル社製）のサービスサポート業務すべてを買収し、正規メーカーとしてメンテナンスサポート開始
- 2011年7月
- 国立大学にて次世代露光装置向け研究機サポート開始
- 2012年8月
- 資本金を２０００万円に増資
- 2012年9月
- 車載向けパワーデバイス半導体用スパッタリング装置開発プロジェクト参加
- 2013年4月
- Sicウエハー用スパッタリング装置開発プロジェクト参加
- 2013年9月
- 台湾DCI社とSEZ関連サービスサポート業務提携を締結
- 2013年10月
- 一般社団法人 日本電子デバイス産業協会（略称：ＮＥＤＩＡ）に加盟
- 2015年10月
- 三重県四日市市に四日市事務所を開設
- 2018年6月
- 大阪本社を大阪市淀川区西中島６−１−１５アセンズ新大阪２Ｆへ移転
バナースペース
延命化ビジネス：サービスサポート例
DNS社製洗浄装置F-WET
PDF
(FS820L,FS821,FC820,FC821,FC3000,
FC3100.SS3000,SU3000など)リファブ、移設、改造対応
SEMITOOL社製洗浄装置PDF
(DSST,SST,SRDなど）リファブ、移設、改造対応
AKT社製PECVD装置（液晶基板）
(AKT1600,AKT3500,AKT5500など）リファブ、移設、改造対応
ULVAC社製スパッタ装置
(CERAUS-Zi1000,CERAUS-Zx1000,
SH450,SME200,MCH4500 など)リファブ、移設、改造対応
エクセル社製リフロー炉
(ER1000CN,ER700C,ER500など)リファブ、移設、改造、保守
芝浦社製ドライETCH装置
(CDE-73,CDE-80など)リファブ、移設
プラズマシステム社製アッシャー
(DES212など)リファブ、移設
DNS社製ランプアニール装置
(LA820 LA830など)リファブ、移設
ULVAC社製イオン注入装置
(IDZ8001など)移設、改造
日新社製イオン注入装置
(NH-20SR,NH-20Sなど)移設、改造
SEZ社製洗浄装置PDF
(SEZ-223など)リファブ、移設、改造
その他各種装置（下記）移設、改造
・ULVAC社製液晶用スパッタ:SMD450
・ULVAC社製液晶用スパッタ:SMD950
・日本ASM社製横型炉:PXJ200
・バリアン社製インプラ:120XP
・MRC社製スパッタ:943
・ULVAC社製蒸着機:EX-550-C10
・CANON社製常圧CVD:APT4800
・アネルバ社製スパッタ:ILC-1051
・ノベラス社製CVD:Concept-1
・DNS社製コーターデベ:SKW-636
・日立製ドライETCH:M-308,M600など
・CANON社製アッシャー:MAS-8000
・TEL社製ETCH:T-8401,8500など
・ASM社製CVD:EAGLE-10
・TEL社製LP-CVD:α８
・カイジョー社製ＷＥＴ装置各種
・TEL社製ETCH:TE480,TE580,Unity